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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Sitemarte3.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Identificador6qtX3pFwXQZsFDuKxG/zagBM
Repositóriosid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.53   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.16.16.13.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/marciana/2003/08.15.15.53.23
Última Atualização dos Metadados2018:06.06.03.57.15 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-9887-PRE/5460
ISSN0257-8972
Chave de CitaçãoTanUeDaRoBeAb:2003:MaPlIm
TítuloMagnesium plasma immersion ion implantation on silicon wafers
ProjetoImplantação iônica por imersão em plasma (IIIP)
Ano2003
MêsJune
Data de Acesso15 maio 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho697 KiB
2. Contextualização
Autor1 Tan, Ing Hwie
2 Ueda, Mário
3 Dallaqua, Renato Sérgio
4 Rossi, José Oswaldo
5 Beloto, Antonio Fernando
6 Abramof, Eduardo
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
2 LAP-INPE-MCT-BR
3 LAP-INPE-MCT-BR
4 LAP-INPE-MCT-BR
5 LAS-INPE-MCT-BR
6 LAS-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasma (INPE.LAP)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Mateiria e Sensores (INPE.LAS)
6 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Mateiria e Sensores (INPE.LAS)
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume169
Páginas379-383
Histórico (UTC)2006-02-16 16:13:28 :: marciana -> administrator ::
2007-05-15 13:48:50 :: administrator -> marciana ::
2008-01-14 15:34:17 :: marciana -> administrator ::
2018-06-06 03:57:15 :: administrator -> marciana :: 2003
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-ChavePLASMA
Metal plasma immersion ion implantation
Metal oxides
Macroparticle filtering
Vacuum arcs
Vacuum-arc plasma
Silicon
PLASMA
Implantação iônica por imersão em plasma metalico
Óxidos metálicos
Filtro de micropartículas
Vácuo
Silicone
ResumoMagnesium ions were implanted by plasma immersion ion implantation on Si wafers. The vacuum arc plasma gun has a straight configuration. and samples were biased from - 2 to - 8 kV with 20-mus pulses at 700 Hz, with or without a magnetic field of 150 G, with arc currents of 600 A. Three samples were positioned 85 cm away from the anode grid, one sample with its surface facing the plasma stream and perpendicular to B (frontal samples), while the others have surfaces parallel to the plasma stream and the magnetic field (lateral samples). High-resolution X-ray diffraction results showed that implantation occurred, as evidenced by distortion of the rocking curves obtained. Deposition with thickness of the order of 1 mum also occurred, but was considerably thinner for samples positioned parallel to the plasma stream. Lateral samples are also free of macroparticles, as shown by SEM observations. The presence of a magnetic field significantly increases the implanted current and the deposition thickness in frontal samples. since plasma density is increased by two orders of magnitude.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Magnesium plasma immersion...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Magnesium plasma immersion...
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Conteúdo da Pasta agreementnão têm arquivos
4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo61.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2001/04.03.15.36
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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